삼성전자 과감한 투자 왜

17일 삼성전자가 발표한 26조원의 ‘매머드급’ 투자 규모는 전 세계 기업 중에서도 유례를 찾기 어렵다.

글로벌 경제위기로 ‘생존 경영’ 체제였던 지난해의 15조 8000억원보다 10조원 이상 많을 뿐만 아니라 앞서 역대 최대치였던 2008년의 21조 2000억원보다도 5조원 가까이 많다. 18조원의 시설투자 규모는 올해 초에 삼성전자가 밝혔던 총 투자액(8조 5000억원)의 두 배 이상이다.

●속도경영 필요성 강조

삼성전자가 과감한 투자에 나서는 것은 세계 정보기술(IT) 시장의 주도권을 확실히 장악하기 위해서다. 올 들어 글로벌 전자업종 경기가 호조를 보이고 있는 만큼 반도체와 액정표시장치(LCD) 등에서 경쟁사들이 넘볼 수 없는 ‘부동의 1위’ 자리를 지키겠다는 의지로 풀이된다.

또 지난 3월 이건희 삼성전자 회장이 경영 일선에 복귀하면서 오너 경영 체제로 전환한 것도 대규모 투자를 결심한 배경으로 작용했다. 이 회장은 당시 “더 이상 머뭇거릴 시간이 없다. 앞만 보고 나가자.”면서 ‘속도경영’의 필요성을 강조한 바 있다.

이 회장은 이날 경기 화성 반도체사업장에서 열린 ‘화성사업장 메모리 16라인 기공식’에서 “지금 세계 경제가 불확실하지만 투자를 더 늘리고 인력도 확보해 글로벌 사업을 선점해야 한다.”면서 “이로 인해 그룹뿐 아니라 우리나라 경제가 성장하는 데 도움을 줄 수 있다.”고 강조했다. 삼성전자 관계자도 “최근 분기별로 3조원 이상의 수익을 내고 있는 만큼 투자를 통해 ‘글로벌 톱’ 자리를 확고히 하겠다는 것”이라고 설명했다.

●반도체 신규라인 5년 만에 건설

총 18조원에 이르는 시설 투자 중에는 먼저 차세대 메모리 제품 생산을 위한 16라인 건설과 30나노 D램 양산을 위한 15라인 증설에 당초 계획한 5조 5000억원보다 3조 5000억원 이상 늘어난 9조원의 대규모 투자를 단행한다. 화성캠퍼스에 들어서는 16라인은 2011년부터 본격 가동돼 매월 12인치 웨이퍼 20만대 이상을 생산하게 된다. 삼성전자가 반도체 신규라인을 건설한 것은 2005년 15라인 이후 5년 만이다. 16라인에는 완공까지 단계적으로 총 12조원이 투자된다. 또 15라인 증설을 통해 올해 말까지 30나노급 D램 생산 비중을 10% 이상 확대할 계획이다. 여기에 시스템 LSI(비메모리)에는 45나노 이하 공정을 적용하는 모바일·디지털 TV 등 시스템온칩(SOC)사업 등의 강화를 위해 2조원대 투자도 추진한다.

LCD 부문은 2011년 이후 대형 패널 수요 증가에 대비해 총 2조 5000억원을 투자, 월 7만대 규모 8세대 LCD 신규라인(8-2 2단계)을 탕정사업장에 건설하기로 했다. 이에 따라 올해 투자 규모도 당초 3조원에서 5조원으로 두 배 가까이 증액된다.

이와 함께 삼성전자는 수요가 폭증하고 있는 3차원(3D) 입체영상 TV나 스마트폰 등의 생산 능력 확충을 위해 세트 부문에도 2조원의 설비 투자를 단행한다. 이번 신규 라인 투자 등을 통해 올해 반도체 부문 3000명, LCD 4000명을 포함해 총 1만명 이상의 신규 고용을 창출할 방침이다.

한편 이번 삼성전자의 26조원 투자와 별도로 그룹의 다른 계열사인 삼성모바일디스플레이는 유기발광다이오드(아몰레드)의 대형화를 위해 총 2조 5000억원을 들여 5.5세대 아몰레드 제조 라인을 건설할 계획이다.

이두걸기자 douzirl@seoul.co.kr